- глубокое реактивное ионное травление
- DRIE
- deep reactive ion etching
глубокое реактивное ионное травление
Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
- полупроводниковые приборы
EN
- DRIE
- deep reactive ion etching
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии. academic.ru. 2015.
